中系稀土抛光粉,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较,可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛光速率提高35%,制品的光洁度可提高一级,抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少,稀土抛光粉生产厂家,有待于今后继续开发新用途。
低系稀土抛光粉,如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光;797型和C-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光;H-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外,其它抛光粉用于对光学仪器,摄像机和照像机镜头等的抛光,这类抛光粉国内用量,约占国内总用量85%以上。
抛光粉通常由氧化、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化和氧化锆为7,氧化铁更低。
基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强,抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点,稀土抛光粉生产工艺,故比其他抛光粉(如Fe2O3)的使用效果佳,而被人们称为"抛光粉".目前该产品在我国发展较快,应用日广,产量猛,发展前景看好。
主要指标:产品中w(REO)=99%,稀土抛光粉的价格,w(CeO2)=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm(或粒度为200目~300目),晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉()。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)为原料,潮州稀土抛光粉,以化学方法预处理得稀土盐溶液,加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:
原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备:氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。
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