显影是在正性光刻胶的曝光区和负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上形成三维图形的一种光刻技术。显影过程如图1 [1] 所示,非曝光区的光刻胶由于在曝光时并未发生化学反应,潮州凹凸面曝光显影,在显影时也就不会存在这样的酸碱中和,凹凸面曝光显影加工,因此非曝光区的光刻胶被保留下来。在显影时曝光区和非曝光区的光刻胶都有不同程度的溶解。曝光区与非曝光区的光刻胶溶解速度反差越大,显影后得到的图形对比度越高。
曝光,是用紫外线光照射,以黑色不透光底片当遮掩介质,而无遮掩的部分油墨发生化学反应固化在pcb高密度多层板上,进行图形转移,把底片上的线路转移到敷铜板上 操作流程:将曝光机的定位光源打开,凹凸面曝光显影工厂,通过定位孔将底片与电源板一面(底片的放置将有形面朝下,背图形面朝上的方法放置)用透明胶固定好,同时确保板件其他孔与底片的重合。
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